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极紫外光有望成为芯片生产商新宠区域

发布时间:2020-05-15 来源:建材选购 点击:1

据科技博客Gizmodo刊文,普通紫外线已经日渐逼近其极限,为了满足需要,极紫外光将应运而生。

你可能已经知道用深紫外光可以蚀刻,但可能你不知道的是,普通紫外线现在已经达到了其极限。幸运的是,一种新型光 极紫外光即将被芯片制造商使用,这将会让你的处理器跟上摩尔定律的步伐。

目前,芯片蚀刻由波长19 纳米的深紫外光完成,但随着芯片体积的几何形缩水,更多内容需要挤放到芯片上,这让生产商撞上了南墙。

现在出现了极紫外光:这种拥有高能量的紫外线波长在124~10纳米之间,如此短的波长可以保证更高的精确度,这作为芯片制造的新方法在理论上已经讨论了好几年,但总是被一个主要问题阻碍:要生成足够强的EUV光相当困难。如果没有足够的强度,蚀刻芯片要么不可能完成,要么需要特别长时间。

但现在,光刻技术开发商阿斯麦公司宣布了一个极紫外光商业样机,该样机今年可用80瓦特的功率产生光线,有望在2014年用到250瓦特。该功率下可每小时蚀刻125个芯片,这还达不到英特尔的要求,英特尔最近表示需要极紫外光生产1000瓦特来满足其生产需要。但这已经足够让ASML相信到2015年极紫外光能够真正应用。(译者:高菲)

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